磁盘基板超精密加工完整工艺流程指南——铝合金基板外径95mm厚度1.27mm平面度<3μmRa<0.02μm从铝带卷料到Ni-P镀层研磨抛光清洗包装15道...

磁盘基板超精密加工完整工艺流程指南——铝合金基板外径95mm厚度1.27mm平面度<3μmRa<0.02μm从铝带卷料到Ni-P镀层研磨抛光清洗包装15道...

发布时间:2026-07-22

关键词:磁盘基板, 工艺流程, 存储设备


磁盘基板制造的精度要求

HDD硬盘的存储密度从1TB/碟提升到3TB/碟对磁盘基板的平面度和表面粗糙度提出了极高的要求。基板表面一个0.05μm的突起就可能导致磁头飞行高度从3nm骤降到1nm造成磁头撞击盘片的数据丢失事故。

工序工步设备关键参数检测节点合格标准
1.铝带卷料铝合金5086卷料检验光谱仪成分Mg4.0-4.9%Mn0.2-0.7%成分+硬度HB75-85
2.冲裁下料圆片冲裁精密冲床外径97mm(留2mm余量)毛刺高度<0.02mm尺寸±0.05mm
3.去应力退火低温退火退火炉250°C保温2h缓冷硬度HV80-90应力消除率>90%
4.粗磨平面双面研磨粗加工双面研磨机去除0.1mm粒度400#平面度<5μm厚度1.45±0.01mm
5.精磨平面双面研磨精加工双面研磨机去除50μm粒度1000#平面度<1μm厚度1.40±0.005mm
6.边缘倒角内外缘倒角CNC倒角机C0.2mm无毛刺显微镜50×无崩边/毛刺
7.清洗超声波去油超声波清洗线碱性清洗液60°C颗粒<0.5μm洁净度Class100
8.化学镀Ni-P镀Ni-P层化学镀线镀液pH4.5-5.0温度88°C镀层厚度10±1μmP含量12-14%
9.退火镀后去氢退火真空退火炉180°C保温4h硬度HV650-750去氢率>99%
10.超精密抛光CMP抛光CMP抛光机去除1μm浆料粒度0.05μmRa<0.02μm平面度<3μm
11.清洗兆声波清洗兆声波清洗机频率1MHz功率500W颗粒<0.2μm 100个以下洁净度Class10
12.外观检查自动光学检测AOI检测仪缺陷检测<1μm划痕/凹坑/气泡零缺陷
13.最终尺寸全尺寸测量激光测微仪外径95±0.02mm厚度1.27±0.005mm平面度<3μm
14.洁净包装真空密封包装真空包装机Class10洁净室包装密闭性颗粒<0.3μm
15.出厂检验抽样测试综检设备AQL0.65抽检全项检测合格放行
FAQ 磁盘基板为什么用Ni-P镀层而不用其他材料? Ni-P镀层非晶态结构硬度HV650-750比铝合金基体高3倍可直接作为磁记录介质生长的基础层且无晶界缺陷适合超高密度磁记录。 磁盘基板平面度3μm为什么这么严格? 磁头飞行高度仅3nm基板平面度偏差导致盘片旋转时轴向跳动使磁头与盘片间距波动超过2nm读写信号信噪比下降10dB以上。 化学镀Ni-P和电镀Ni-P有什么区别? 化学镀Ni-P无需外接电源利用自催化还原反应镀层厚度均匀性±1μm适合磁盘基板这种薄片零件;电镀Ni-P电流密度分布不均导致厚度差±5μm以上不适用于高精度基板。

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