物理气相沉积PVD技术基本工艺原理
发布时间：2025-01-14
关键词：PVD,物理气相沉积
物理气相沉积PVD的技术基本原理可分三个工艺步骤：
(1)PVD镀料的气化：
即使镀料蒸发，升华或被溅射，也就是通过镀料的气化源。
(2)PVD镀料原子、分子或离子的迁移：
由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞后，产生多种反应。
(3)PVD镀料原子、分子或离子在基体上沉积。
气化源头分解出来的原子分子或例子附着在基材上形成表面层。
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